第219章 第四个万分超级大奖！

第219章 第四个万分超级大奖！ (第1/2页)

【恭喜宿主获得奖励：原子光刻机研发技术！】
　　
　　哇草——
　　
　　原子光刻机？？
　　
　　正在开车的洛云峥蛋蛋一震！
　　
　　无数复杂的光刻机技术排队灌入他的脑海。
　　
　　上一次的万分超级大奖是1nm芯片研发技术，近一个半月，他一直在私下研究消化，同时让沈夜子秘密前期筹备。
　　
　　如果想生产出1nm芯片，必须拥有能承载1nm生产工艺的光刻机，因为芯片在设计之后，要经过一系列复杂的生产流程，而光刻是其中最重要的环节。
　　
　　光刻机对于芯片，相当于“印刷机+雕刻刀”的综合体，即把芯片设计图以纳米级精度“印刻”到硅晶圆上，它决定了电路的最小线宽与关键尺寸，是整个制造流程的核心。
　　
　　目前世界上的主流光刻机，根据光源不同，分为UV（紫外光源）、DUV（深紫外光源）、EUV（极紫外光源）。
　　
　　其中EUV光刻机技术最先进，可以生产2nm芯片，荷国的阿丝麦公司是全球唯一量产EUV的供应商，苔积电、三星、英特尔为主要客户。
　　
　　龙国的光刻机技术相对落后，仍处在DUV阶段，当然还有别的光刻模式，比如电子束光刻机，但国内最先进的光刻机只能生产7nm芯片，而且暂时未能量产。
　　
　　拿华伟举例，华伟最新款旗舰手机MateXTS三折叠，芯片为麒林9020，工艺为龙芯国际7nm，该工艺采用的光刻机是荷国阿丝麦公司的浸没式DUV。
　　
　　问：为什么不采用更高端的EUV光刻机？
　　
　　答：荷国在米方的施压下实施出口管制。
　　
　　因此，龙国的芯片行业一直被欧美卡着脖子，花高价都买不到高端光刻机。
　　
　　系统传授洛云峥的光刻机是原子技术，原子光刻机与EUV等主流光刻机区别很大。
　　
　　对比来看——
　　
　　精度方面：原子光刻机的分辨率能突破0.3纳米，而当前最先进的EUV光刻机精度只能达到2nm。
　　
　　能耗方面：原子光刻机与EUV光刻机相比，可将芯片制造能耗降低80%。
　　
　　成本方面：原子光刻机的成本可压缩到EUV光刻机的1/5，要知道高端EUV光刻机的售价高达25亿/台，成本之昂贵，可见一斑。
　　
　　一句话，原子光刻机吊打当今世界上最先进的EUV光刻机。
　　
　　别说1nm芯片了，0.3nm都可以承制。
　　
　　因为技术过高，全球至今无人能研发出原子光刻机，目前处于理论试验阶段。
　　
　　洛云峥如果研发出原子光刻机，生产1nm芯片那是手拿把掐，龙国在芯片和光刻机领域也将一骑绝尘，遥遥领先！
　　
　　我就说嘛~
　　
　　只奖励我1nm芯片研发技术，却不奖励能制造它的光刻机，这不是玩儿我嘛。
　　
　　现在好了，完美解决！
　　
　　光刻机的研发难度不亚于芯片，这是先有鸡还是先有蛋的问题，EUV光刻技术从提出到正式投入工业化生产，研究人员花费长达30年时间，由此可见它的难度有多高。
　　
　　量子技术就更复杂了……
　　
　　洛云峥单单接受系统传功，就花费一个多小时，到了复交附属肿瘤医院，脑瓜子嗡嗡的。
　　
　　不行！
　　
　　得释放释放！
　　
　　不然脑子要炸！
　　
　　

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